1、机械抛光：机械抛光分为粗抛光和细抛光。粗抛光是在转速200-300转/分的电动抛光盘上用粗呢绒停止的。在粗抛光的过程中，要恰当的撒上较粗的氧化铬、氧化铝或氧化镁抛光液，并坚持抛光盘上呢绒的潮湿。在粗抛光过程中要拿紧试样，沿抛光盘的径向往复运动，平均地调整所施加的压力，留意其压力也不应过大。抛光开端时，要不时的撒些抛光液。以后渐渐减轻压力，减低抛光液的浓度直至抛光到细磨痕消逝，平整光亮且没有黑点时为止。粗抛光的试样经水洗净后再停止细抛光，经过细抛光以求肃清粗抛光所留下的磨痕，使磨面光亮平整。细抛光所用的抛光机与粗抛光所用的设备根本相同，其转速为150-200转/分。
  细抛光采用柔软的毛织物，通常用细呢绒停止抛光。抛光粉要更细些，市面上售的氧化铬经水选浮后可用于细抛光。若要得到更好的抛光效果，可选用细氧化镁或氧化铝作抛光液在麂皮上手工抛光。在细抛光过程中施加的压力应比粗抛光时轻，抛光液不要太浓，绒盘要坚持一定的湿度。由于呢绒太干，容易将磨面划伤，呈现较深较多的划痕;呢绒太湿也不好，会使磨面氧化。呢绒湿度随着抛光过程的停止而逐步减少。经常察看试样细抛光的状况，提起后在试样的抛光面上不粘带抛光液及小的水珠。而坚持一吹即干的水膜时，要悄悄抛光。待试样的粗抛光磨痕消逝，基体清亮，拿起后在试样的抛光面上无水膜时，试样的细抛光曾经适宜。若运用氧化镁抛光粉时，要随用随配，用过后应将呢绒盘取下，放在活动水中认真清洗，以防潮解蜕变。试样在抛制过程中无论是粗抛光或细抛光都不宜时间过长，压力过大，否则将抛掉合金中的相，使磨面的变形层加深，从而影响抛光质量，在下一步察看时得出错误的组织结论。
 
  2、化学抛光：化学抛光是让资料在化学介质中外表微观凸出的局部较凹局部优先溶解，从而得到平滑面。这种办法的主要优点是不需复杂设备，能够抛光外形复杂的工件，能够同时抛光很多工件，效率高。化学抛光的中心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的外表粗糙度普通为数10μm。
 
  3、点解抛光：工件上脱离的金属离子与抛光液中的磷酸构成一层磷酸盐膜吸附在工件外表，这种黏膜在凸起处较薄，凹处较厚，因凸起处电流密度高而溶解快，随黏膜活动，凹凸不时变化，粗糙外表逐步被整平的过程。  工件作为阳极接直流电源的正极。用铅、不锈钢等耐电解液腐蚀的导电资料作为阴极，接直流电源的负极。两者相距一定间隔浸入电解液(普通以硫酸、磷酸为根本成分)中，在一定温度、电压和电流密度(普通低于1安/厘米2 )下，通电一定时间(普通为几十秒到几分)，工件外表上的微小凸起局部便首先溶解，而逐步变成平滑光亮的外表